负胶光刻做倒梯形的程度与曝光时间有什么关系

发布者:admin 发布时间:2019-10-29 08:40 浏览次数:

  负胶光刻是比较不好控制的,各个所需要控制的量之间总是有各种不太确定的关系。如果单看能量的话,理论上讲,曝光时间短,胶体下表面就不会得到完全曝光,容易形成倒梯形。但是实际上,负胶光刻除了与曝光量有关系外,还与光刻胶厚度、图形尺寸以及显影时间等关系密切。需要各方面考虑才能得到好的结果。

  负胶光刻是比较不好控制的,各个所需要控制的量之间总是有各种不太确定的关系。如果单看能量的话,理论上讲,曝光时间短,胶体下表面就不会得到完全曝光,容易形成倒梯形。但是实际上,负胶光刻除了与曝光量有关系 ...

  负胶的坚膜对梯形会产生影响吧??如果显影之后不坚膜,如何清洗和去除水分呢

  负胶的坚膜对梯形会产生影响吧??如果显影之后不坚膜,如何清洗和去除水分呢

  哥们,他们的意思应该是在曝光前坚膜和曝光后坚膜对倒梯形影响很大,应该不是指显影后坚膜吧?

  哥们,他们的意思应该是在曝光前坚膜和曝光后坚膜对倒梯形影响很大,应该不是指显影后坚膜吧?

  他们说曝光后烘烤对梯形影响很大,但显影后坚膜对倒梯形同样有很大影响。。。

  他们说曝光后烘烤对梯形影响很大,但显影后坚膜对倒梯形同样有很大影响。。。

  欢迎协助我们监督管理,共同维护互联网健康,违规贴举报删除请联系邮箱: 或者 QQ:(点此查看侵权举报方式)


上一篇:十二水合硫酸铝钾 7784-24-9    下一篇:天津摩戈科技发展有限公司